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    光温双控太赫兹波调制特性研究

    放大字体  缩小字体 发布日期:2022-01-10 16:30:49    浏览次数:131    评论:0
    导读

    摘 要:基于多频带金属开口谐振环结构, 利用GaAs材料的光敏特性和VO2薄膜的热致相变特性, 设计了一种既能实现光控又能实现温控的太赫兹(Terahertz, THz)波调制器, 研究了光强和薄膜温度对 THz波调制特性的影响。 结果表明, 随着光强的增加, 谐振频率均出现蓝移且谐振强度减小, 当光强达到0.2 μJ·cm-2时, 第二个谐

    摘 要:基于多频带金属开口谐振环结构, 利用GaAs材料的光敏特性和VO2薄膜的热致相变特性, 设计了一种既能实现光控又能实现温控的太赫兹(Terahertz, THz)波调制器, 研究了光强和薄膜温度对 THz波调制特性的影响。 结果表明, 随着光强的增加, 谐振频率均出现蓝移且谐振强度减小, 当光强达到0.2 μJ·cm-2时, 第二个谐振点(0.52 THz)蓝移了0.14 THz, 透射幅度增加达50%; 随着VO2温度增加至相变温度以上, THz波透射幅度急剧减小, 在0.63 THz处透射幅度减小达45.5%; 当光强和温度同时控制时, 随着光强和温度的增加, 谐振点频率蓝移且谐振点处的THz波透射幅度增加, 但在温度超过相变温度后, 则温度控制起主导作用。 设计的THz波调制器能通过光控和温控实现对THz波的明显调制效果, 可为实现多功能的THz波功能器件的设计及应用提供参考。

    关键词:太赫兹; 多频带; 多种方式控制; 光控; 温控

    引 言

    太赫兹(THz)波通常是指波段位于微波和红外之间, 频率在0.1~10 THz之间的一段尚未完全开发利用的电磁波段。 THz波的高穿透性、 光子低能性、 频带宽等独特优势使THz技术在光谱、 生物、 成像和通信等领域显示出巨大的应用潜力[1]。 相比传统的无线电通信技术, THz波具有频谱丰富、 带宽大、 传输速率高等优势, 在未来无线通信领域具有广阔的前景。 然而作为THz通信系统中关键器件, THz波调制器的实用化限制了THz技术的发展。 许多科研人员已针对THz波调制器开展了大量的研究, 最早的THz波调制器是由Libon等通过光在多量子阱结构中激发自由电子研制而成[2], 随后科研人员又研制出了利用光控、 温控、 电控等控制方式的THz波调制器[3-4]。 其中, 光控方式具有调制速率高、 调制深度大的特点; 温控虽然调制速率慢, 但具有条件相对容易实现的特点, 因此, 基于光控和温控的THz波调制器的研究已成为目前的热点, 并且已经取得一定的研究成果。 例如Sui等[5]设计的光控THz波调制器在1.96 THz处对THz波的调制深度达到了96.4%, 调制速率达到了1 360皮秒; 刘志强等[6]设计的基于VO2温控THz波调制器在1.3和1.7 THz处调制深度也达到了60%以上。 传统的THz波调制器存在功能及控制方式单一的不足, 而多功能和多种方式控制的THz波调制器不仅能减少成本、 提高集成度, 还可以拥有更灵活的调制方式。 目前, 多功能THz波调制器已有报道, 如杨磊等[7]设计的多功能THz波调制器不仅能够对THz波的偏振态进行调制, 还能对THz波透、 反射强度进行调制。 然而采用多种方式控制的THz波调制器却鲜有报道。

    基于多频带金属开口谐振环结构, 利用半导体GaAs的光敏特性和VO2的热致相变特性, 我们将半导体GaAs和相变材料VO2结合起来, 设计了一种既能实现光控又能实现温控的THz波调制器, 分析了泵浦光强和薄膜温度对调制器调制特性的影响, 并利用该调制器对THz波实现了动态调制, 取得了良好的调制效果。

    1 理论模型

    1.1 光控模型

    与Ge, Si等半导体材料相比, GaAs拥有电子迁移率高、 禁带宽度大等优势, 从而使基于GaAs材料的器件不仅具有高光电转换效率、 低噪声, 还能工作在高频高压高温下。 对于半导体材料, 当入射光子能量E大于禁带宽度Eg时, 将会激发出电子-空穴对, 使半导体材料内非平衡载流子增多, 进而导致介电常数和电导率等特征参数发生改变, 从而改变半导体材料的性能。 当泵浦光(EEg)作用于半导体GaAs时, 其内部光生载流子浓度随泵浦光强而发生变化。 所产生的光生载流子浓度ΔN满足连续性方程

    (1)

    式(1)中, Da为扩散系数; Br为复合效率; n0p0为本征载流子浓度。

    假设垂直入射到半导体表面的激光脉冲为高斯脉冲, 其光强分布为

    (2)

    式中, I0为泵浦光强; σ=TP/[2(ln2)1/2]为高斯分布均方差, TP为激光脉宽。

    于是, 光生载流子的产生率可表示为

    (3)

    式中, R为GaAs表面反射系数; β为量子效率; S为入射光斑面积; α=4πk/λ为吸收系数, k为消光系数。

    方程(1)的边界条件为

    (4)

    (5)

    式中, s为半导体表面复合速率。

    假设到达GaAs下表面的光强为零(GaAs穿透深度约为1 μm[11]), 则初始条件为

    (6)

    在THz波段, 半导体GaAs的介电函数可以用Drude模型来描述

    (7)

    式中, ε为高频介电常数; γ为碰撞频率; ωp为等离子频率, 可表示为

    (8)

    式中, N为载流子浓度; m*为有效质量, 对于GaAs[8], m*=0.067me。 由于GaAs本征载流子浓度ni(≈1012 m-3)远小于光生载流子浓度ΔN(~1022 m-3), 所以NN+ni≈ΔN

    1.2 温控模型

    相变材料的发现为调制THz波提供了一个全新的途径。 其中VO2是一种具有热致绝缘-金属相变特性的金属氧化物, 相变温度约为68 ℃, 相变过程中电导率的变化可达2~5个数量级。 而且相变过程可逆, 因而VO2可作为THz波调制器件的功能材料。 根据VO2热致相变理论, 可以将VO2看作是由绝缘相和金属相颗粒组成的复合体系, 此复合体系的介电常数可表示为[9]

    (9)

    式中, εDεM分别等价为VO2薄膜中绝缘成分与金属成分

    的介电常数; f为VO2薄膜中金属成分体积分数。 复合体系中的绝缘成分可当做介电常数εD=9的电介质, 且f与温度T之间的关系可用Boltzmann函数描述

    (10)

    式中, fmax为最高温度时VO2薄膜中金属组分体积分数最大值, T0为相变临界温度, ΔT为过渡温度。

    复合体系材料的电导率可由其介电常数进一步确定[10]

    (11)

    在THz波段, VO2薄膜中的金属成分同样也可用Drude模型来描述其介电函数, 而且对于VO2薄膜, ε=εD, m*=2me, γVO2=1/τ, τ为载流子碰撞时间。

    1.3 调制器结构设计

    本文设计的多种方式控制的 THz波调制器结构单元如图1所示, 由四层结构组成, 分别是由上层的多频带金属开口谐振环、 第二层的半导体GaAs、 第三层的蓝宝石和底层的VO2薄膜组成。 其中谐振环和VO2薄膜厚度均为t=0.1 μm, 谐振环材料为金(Au), 中间的GaAs和蓝宝石厚度均为h=5 μm。 开口谐振环的结构及尺寸参数如图1(a)所示, 图中标示的结构尺寸分别为a=100 μm, b=34 μm, c=14 μm, d=1 μm, l=80 μm, w=3 μm, g=1 μm。

    图1 多种方式控制THz波调制器的结构和尺寸

    Fig.1 The structure and dimension of multi-control THz wave modulator

    2 仿真模拟及讨论

    2.1 泵浦光强对THz波透射谱的影响

    基于上述光控理论模型和设计的调制器结构, 在分析泵浦光强对THz波透射谱的影响之前, 首先分析光强对超材料衬底中光生载流子浓度的影响。 采用波长800 nm, 脉宽100 fs的激光模拟计算可得到半导体GaAs内部光生载流子浓度随时间和空间的分布。

    由图2可以看出, 当激光照射到GaAs表面时, 光生载流子浓度迅速增加, 且大部分集中在表面区域。 由于GaAs光生载流子的寿命在纳秒量级[14], 所以光生载流子浓度达到最大值后缓慢下降。 当激光脉宽小于载流子寿命时, GaAs将会达到稳定的载流子浓度。 载流子浓度增加电导率也随之增加。 由此可见, 随着光强的改变, 谐振环的谐振特性和THz波的透射谱也将改变。 基于有限元分析法, 利用CST microwave studio仿真计算了不同光强下的THz波透射谱, 如图3所示。

    表1 GaAs瞬态光注入模型下计算参数[11-13]

    Table 1 The calculation parameters of transient optical injection model of GaAs

    图2 GaAs内光生载流子浓度随时间和空间的分布(I0=1.50 μJ·cm-2)

    Fig.2 The distribution of photoexcited carrier density with time and space in GaAs (I0=1.50 μJ·cm-2)

    图3 不同泵浦光强下的太赫兹波透射谱

    Fig.3 The terahertz wave transmission spectra under different pump laser fluences

    假设THz波垂直入射到调制器表面, 电场方向垂直于谐振环开口方向, 磁场方向平行于谐振环开口方向。

    由图3可以看出, 随着光强的增加, 谐振环谐振强度减小, 谐振点的透射幅度增加, 且谐振点频率蓝移。 当光强I0达到0.2 μJ·cm-2时, 第二个谐振点频率0.52 THz处的透射幅度由13%增加到63%, 增幅达50%, 这是因为随着光强增加, GaAs内部光生载流子浓度增加, GaAs逐渐呈现金属性, 导致谐振环的谐振特性减弱, 谐振强度减小, 透射率增加。 此外谐振点频率向右移动0.14 THz, 这是因为随着光强加大, 开口处的电导率增加, 电容C减小, 而谐振频率ω0∝1/(LC)1/2, 所以谐振点频率蓝移。 光强持续增加至1.5 μJ·cm-2时, GaAs呈现高度金属性, 谐振环的谐振特性趋于消失, 载流子对THz波产生强烈吸收, 使THz波的透射幅度明显降低。

    2.2 VO2薄膜温度对THz透射谱的影响

    基于上述温控理论模型, 首先分析温度对VO2薄膜电导率的影响。 结合式(7)—式(11), 求解出VO2薄膜电导率和温度关系(升温过程中T0=68 ℃, 降温过程中T0=63 ℃)。

    表2 相变过程中VO2参数[15-16]

    Table 2 The VO2 parameters in the process of phase transition

    图4 VO2薄膜电导率与温度的关系

    Fig.4 The relationship between conductivity and temperature of VO2 thin films

    从图4可以看出, 当VO2薄膜升温时, 在68 ℃附近电导率急剧变化, 降温过程中存在类似磁滞效应的滞后。 由于VO2薄膜的电导率在相变前后发生剧烈变化, THz波透射谱也将随着温度的改变而明显变化。 利用CST仿真模拟不同温度下的THz波透射谱, 如图5所示。

    图5 不同二氧化钒薄膜温度下的太赫兹波透射谱

    Fig.5 The terahertz wave transmission spectra under different temperatures of VO2 thin films

    由图5可以看出, 在VO2薄膜相变以前, 随着温度的增加, 调制器透射谱线峰值处THz波透射幅度缓慢减小, 当温度超过VO2的相变温度时, 随着温度增加, 透射谱线峰值处的THz波透射幅度急剧减小, 当温度达到80 ℃时, 在第二个透射谱线峰值0.63 THz处, THz波透射幅度从87.3%减小到了41.8%, 减幅达45.5%。 这是由于温度较低时VO2薄膜复合体系金属相成分占比很低, 对THz透射影响较小, 当温度超过相变温度时, VO2薄膜复合体系中金属相成分急剧增加到90%以上, 此时VO2薄膜中金属成分对THz波强烈吸收, 使得THz波透射幅度大幅锦小。

    (a)相变前(T=67 ℃)不同光强下的透射谱

    (a)The transmission spectra under different pump laser fluences before phase transformation (T=67 ℃)

    (b)相变后(T=80 ℃)不同光强下的透射谱

    (b)The transmission spectra under different pump laser fluences after phase transformation (T=80 ℃)

    (c)光强和温度同时改变时的透射谱

    (c)The transmission spectra with pump laser fluence and temperature changing simultaneously

    图6 不同条件下的THz波透射谱

    Fig.6 The terahertz wave transmission spectra under different conditions

    2.3 温度和光强共同作用对THz波透射谱的影响

    为了说明光强和温度共同作用对透射谱的影响, 图6给出了光强和温度同时变化时, 调制器对THz波的调制效果。

    当温度处于相变前某一温度(如T=67 ℃)时, VO2薄膜中金属相占比只有35%, 对THz波透射谱的影响不大, 这时与光控调制效果(图4)很相似, 只是调制效果略微减小。 如当光强达到0.2 μJ·cm-2时, 谐振频率0.52 THz处透射幅度增加了43.6%。 当温度处于相变后某一温度(如T=80 ℃)时, THz波透射幅度整体处于48.5%以下, 如图6(b)所示, 此时当光强达到0.2 μJ·cm-2时, 谐振频率0.52 THz处透射幅度只增加了13.9%, 随着光强的进一步增加, THz波透射幅度也持续减小, 这是由于温度超过相变温度后, VO2薄膜中金属相成分占比很高, THz波被大量吸收, 光强对调制器的影响减弱。 当温度低于68 ℃、 光强小于0.2 μJ·cm-2时, 随着温度和光强增加, 谐振强度减小, 谐振频率蓝移; 当温度大于68 ℃、 光强大于0.8 μJ·cm-2, 温度和光强再增加时, 透射幅度急剧减小, 如图6(c), 这是由于此时GaAs呈金属性, VO2相变成金属态, 使THz波被GaAs和VO2中的大量载流子吸收, 这时相当于调制器处于关闭状态。 对比单独用光控和温控可知, 当使用光强和温度同时进行控制时, 如果温度超过相变温度后, 则温度控制起主导作用。

    3 结 论

    基于半导体GaAs的光敏特性和VO2的绝缘-金属相变特性, 提出了一种以多频带金属开口谐振环为谐振单元, 既能够实现光控又能够实现温控的多种方式控制的THz波调制器, 分析了光强和温度对THz波调制器调制特性的影响, 结果表明, 当只用光控时, 随着光强的增加, 谐振点处的THz波透射幅度均逐渐增加, 谐振点频率蓝移, 随着光强持续增加, 谐振特性将逐渐消失; 当只用温控时, 随着温度的增加, 透射谱线峰值处透射幅度逐渐减小, 相变后透射幅度急剧减小。 当光强和温度同时控制时, 随着光强和温度的增加, 谐振点频率蓝移且谐振点处的THz波透射幅度增加, 随着光强和温度持续增加, THz波透射幅度急剧减小。 该结果可为实现多种方式控制的 THz波调制器的设计提供有用参考。


     
    (文/小编)
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