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    CdZnTe晶片表面钝化研究

    放大字体  缩小字体 发布日期:2021-11-24 14:33:43    浏览次数:11    评论:0
    导读

    【分类导航】数理科学和化学-晶体学-晶体生长-晶体加工【关键词】CdZnTe表面漏电流钝化TeO2【摘要】用NH4F/H2O2对Br2-MeOH抛光CdZnTe晶片表面进行了表面钝化处理,通过I-V测试及XPS分析分别对钝化前后的CZT晶片的电学性能和表面组成进行了表征.I-V测试结果表明NH4F/H2O2对CdZnTe晶片表面有较好的钝化效果,电流下降率随所加偏

    【分类导航】数理科学和化学->晶体学->晶体生长->晶体加工
    【关 键 词】CdZnTe 表面漏电流 钝化 TeO2
    【摘    要】用NH4F/H2O2对Br2-MeOH抛光CdZnTe晶片表面进行了表面钝化处理,通过I-V测试及XPS分析分别对钝化前后的CZT晶片的电学性能和表面组成进行了表征.I-V测试结果表明NH4F/H2O2对CdZnTe晶片表面有较好的钝化效果,电流下降率随所加偏压的增加而下降.在10V偏压下,电流下降最明显,下降率为73.7%.与欧姆定律发生偏离的临界场强为333V/cm.XPS分析发现,用NH4F/H2O2处理可使CdZnTe表面富集的Te 79.28%被氧化成TeO2,氧化层的厚度约为3.15nm.钝化后的表面更接近CdZnTe的化学计量配比.


     
    (文/小编)
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