• 全国 [切换]
  • 深圳市鼎达信装备有限公司

    扫一扫关注

    当前位置: 首页 » 新闻动态 » 真空技术 » 正文

    CdZnTe晶片表面钝化研究

    放大字体  缩小字体 发布日期:2021-11-24 14:33:43    浏览次数:14    评论:0
    导读

    【分类导航】数理科学和化学-晶体学-晶体生长-晶体加工【关键词】CdZnTe表面漏电流钝化TeO2【摘要】用NH4F/H2O2对Br2-MeOH抛光CdZnTe晶片表面进行了表面钝化处理,通过I-V测试及XPS分析分别对钝化前后的CZT晶片的电学性能和表面组成进行了表征.I-V测试结果表明NH4F/H2O2对CdZnTe晶片表面有较好的钝化效果,电流下降率随所加偏

    【分类导航】数理科学和化学->晶体学->晶体生长->晶体加工
    【关 键 词】CdZnTe 表面漏电流 钝化 TeO2
    【摘    要】用NH4F/H2O2对Br2-MeOH抛光CdZnTe晶片表面进行了表面钝化处理,通过I-V测试及XPS分析分别对钝化前后的CZT晶片的电学性能和表面组成进行了表征.I-V测试结果表明NH4F/H2O2对CdZnTe晶片表面有较好的钝化效果,电流下降率随所加偏压的增加而下降.在10V偏压下,电流下降最明显,下降率为73.7%.与欧姆定律发生偏离的临界场强为333V/cm.XPS分析发现,用NH4F/H2O2处理可使CdZnTe表面富集的Te 79.28%被氧化成TeO2,氧化层的厚度约为3.15nm.钝化后的表面更接近CdZnTe的化学计量配比.


     
    (文/小编)
    打赏
    免责声明
    • 
    本文为小编原创作品,作者: 小编。欢迎转载,转载请注明原文出处:https://2024.dingdx.com/news/show.php?itemid=4063 。本文仅代表作者个人观点,本站未对其内容进行核实,请读者仅做参考,如若文中涉及有违公德、触犯法律的内容,一经发现,立即删除,作者需自行承担相应责任。涉及到版权或其他问题,请及时联系我们。
    0相关评论
     

    © Copyright 深圳市鼎达信装备有限公司 版权所有 2015-2022. All Rights Reserved.
    声明:本站内容仅供参考,具体参数请咨询我们工程师!鼎达信作为创新真空产品研发制造商,我们提供海绵吸具,海绵吸盘,真空吸盘,真空发生器,真空泵,真空鼓风机,缓冲支杆,真空配件,真空吊具等等产品

    粤ICP备17119653号